现在当今世界，5nm芯片生产工艺可以说是最尖端的科技，国内现在最先进的中芯国际公司也才刚刚突破N+1生产工艺，能够实现大概7纳米生产工艺水平。近日中科院表示张子旸团队光刻方面取得研究进展，在5nm光刻工艺上研发出来一种新型的5nm芯片的加工方法。当前在5纳米芯片加工生产中，主流生产技术是光刻技术和极紫光光刻技术两种，而张子旸团队的5nm工艺则是在无掩模光刻技术上的一项研究。传统中的无掩模光刻技术的成本非常低，但是激光的精度却难以掌控，这也是这项技术难以量产应用的原因。

而这次，张子旸团队进行研究的就是无掩膜光刻技术，这次研究通过双激光束交叠技术达到了5纳米的光刻精度，能够实现5纳米芯片的生产。这样的技术不仅让无掩模光刻机光刻精度大大提升，达到了生产5nm芯片的要求，而且生产效率也有所提高。据中国微米纳米技术学会报道，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员，与国家纳米科学中心刘前研究员合作，在其发表的论文讲述了该团队开发的新型 5 nm 超高精度激光光刻加工方法。

当然，这个还是一个实验室的技术，想成功应用到生产当中去，可能还需要不短的路要走，但是毕竟5nm光刻新技术已经实现突破，接下来只要在设备制造和生产商再次获得突破，那么未来可能5nm直刻技术就能够很好的应用到生产中去。而且现在张子旸团队在5纳米芯片生产研发获得突破，采用的设备应该全部是自研设备，如果未来这项技术能够获得量产的话，那么我国芯片制造产业可能将会实现飞跃发展。甚至未来有可能一改世界芯片制造设备生产的格局，可能让ASML就会难受。

从现在来看，国内在芯片制造领域内也在做两方面的准备和研究。一个是激光直刻技术，一个就是在研发更先进的EUV光刻机。如果这两个芯片光刻方面的顶尖设备和顶尖生产技术，科研院所以及企业能够获得更快的突破，那么未来我国生产5纳米芯片，甚至是更先进的3纳米，2纳米的芯片都将成为可能，那么未来我国的芯片产业发展将会发展的更好。