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摘要:光刻机是制作高精度掩模版的关键设备。使用极细的激光光束,在极其精密自动控制系统控制下于掩模版基材上绘制出高精密线路图形。 激光直写是利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料(光刻胶)实施变剂量曝光,显影后在抗蚀层表面形成所要求的浮雕轮廓。激光直写光刻系统的基本工作原理是由计算机控制高精度激光束扫描,在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图
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