韩国科学技术院KAIST在12日宣布，由物理系Yonggeun Park教授领导的研究团队和浦项加速器研究所Joon Lim博士领导的研究团队通过联合研究，成功开发可以克服现有X射线显微镜分辨率限制的技术，可用于精确检测半导体和电池内部结构。

　　研究团队开发了一种新的X射线纳米显微技术来克服成像技术的分辨率问题。研究团队通过使用随机制成的直径为300纳米圆形图案的透镜，成功获得了分辨率为14纳米（大约是冠状病毒大小的七分之一）的图像。研究团队开发的成像技术是提高X射线纳米显微镜分辨率的关键基础技术，而该技术一直被现有同心衍射板的生产问题所阻碍。

　　KAIST物理系的Gyeore Lee博士说，“如果我们使用下一代X射线光源和高性能 X射线探测器，预计将能够超越现有X射线纳米图像的分辨率，接近电子显微镜的分辨率水平，在1纳米左右。与电子显微镜不同，X射线可以观察内部结构而不损坏样品，因此它将能够为半导体检测等非侵入式纳米结构观察提出新的模式。”

　　这项研究于7日发表在国际光学和光子学期刊《Light: Science and Application》上。