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磁控溅射镀膜机是一种普适镀膜机，用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜，亦可镀铁磁材料。主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。
磁控溅射镀膜机镀膜原理为磁控溅射，相对化学镀膜方式，其优点为膜层附着力更强，焊接后拉力测试大于10N；均匀性更好；化学镀膜在60倍显微镜下可看到明显的针孔、凸起，而磁控溅射没有针孔和凸起。
磁控溅射镀膜方式因生产产品过程中始终保持真空，因此无二次污染。下图为设备实物图。
（磁控溅射镀膜机）
除了以上优点，磁控溅射镀膜机单纯镀金产能为4万+根/月，且镀膜种类多，含盖所有金属，典型镀层有Cr、Ti、Ni、Au。也可以进行混合镀膜，比如Ni和Au混合、Ti和Au和Cr混合。 磁控溅射镀膜机的优势明显，一直以高功率及保偏器件为产品生产研发导向的光越科技（深圳）有限公司近期引进磁控溅射镀膜机并且经过研发人员的不断验证，完成高精度研磨机项目，磁控溅射镀金系列产品也正式投入生产，产品系列如下：
（空气入射5°反射率曲线，测试波段中远红外2000-25000nm）
（空气入射5°金反射率测试曲线，测试波段400-2500nm）
（空气入射45°光谱曲线，测量波段400-2500nm）
金+保护膜（400-20000nm）
（金+保护膜2000-20000nm）
 金属化蓝宝石窗口片是使用铬、镍、金镀于蓝宝石窗口片边缘制作而成的新型窗口片，金属膜边缘可直接焊接或连接到光学机械装配上，达到密封效果。
斜面、微透镜、楔形光纤所用的设备为完全自主研发，设备可依据产品结构不同而进行修改。可生产多种要求的光纤。 使用该设备加工出的光纤精度高，角度误差在1°内，尺寸误差控制在1微米内，端面质量好，在400倍端检仪下观察无可见划痕、麻点。
备注： 锥角误差主要是指微透镜光纤的圆锥夹角，对于单模，其精度越高，加工曲率的良率就越高。对于多模光纤，锥度的精度越高其耦合效率一致性更好。 角度误差主要是指楔形透镜光纤的夹角，对于其精度越高，加工的曲率的良率就越高。对于多模光纤，锥度的精度越高其耦合效率一致性更好。 曲率精度越高，耦合效率越高。 偏心量越小，透镜光纤的光轴与光纤包层轴线的夹角越小，从而方便耦合调试，提高生产效率。 大拉力可以降低产品使用不当导致的坏损率，对使用环境适应性更强。
行业的快速发展，产品迭代的速度也越来越快，而光越科技也将保持初心，主攻高功率及保偏器件市场，探索市场动向，为客户提供更符合市场需求的产品。
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