激光诱导 XUV 光谱 (LIXS) 成为激光诱导击穿光谱 (LIBS) 中高精度分析的一种有前途的技术，提供了改进的检测限、精度和检测材料中痕量异质性的能力。通过在极紫外范围内捕获稳定的等离子体发射，LIXS 展示了其以高信噪比检测轻元素和卤素的潜力，为研究人员提供了进行高级材料分析的宝贵工具。

　　长期以来，激光诱导击穿光谱 (LIBS) 一直被用作快速微量分析技术。然而，其精度受到等离子体闪烁噪声的限制。在最近发表在Spectrochimica Acta B 部分：原子光谱学上的一项研究中，研究人员介绍了激光诱导 XUV 光谱 (LIXS) 作为克服这些限制并实现高精度 LIBS 分析的有前途的方法 (1)。通过在极紫外 (XUV) 范围内收集稳定的等离子体发射，LIXS 提供了更高的精度、更高的检测限以及检测材料中痕量异质性的能力。

　　LIXS 的工作原理与 LIBS 类似，但在 XUV 区域捕获稳定的等离子体发射，这对应于激光-等离子体相互作用的早期阶段。研究人员证明，XUV 光谱仪以二次方式增加信息容量，从而实现更高精度的分析。该研究深入研究了 LIXS 等离子体中的特定电子-离子过程，阐明了该技术如何提高 LIBS 分析的检测限和精度。

　　LIXS 的显着优势之一是它能够以高信噪比和无分馏响应检测轻元素和卤素。这种能力为材料分析开辟了新的可能性，其中痕量元素的准确测定至关重要。作者讨论了 LIXS 在材料分析中的各种应用，展示了其在检测和量化轻元素和卤素方面的有效性。

　　LIXS 的推出代表了激光诱导光谱学领域的重大进步，为研究人员提供了一种用于高精度材料分析的强大工具。通过利用 XUV 范围内稳定的等离子体发射，LIXS 提高了 LIBS 分析的精度，允许以卓越的灵敏度检测微小的异质性和痕量元素。Empa Materials Science & Technology 和苏黎世大学的 Davide Bleiner 及其同事的研究强调了 LIXS 的潜力及其在微分析技术领域的未来影响。

　　随着研究不断完善和扩展激光诱导 XUV 光谱的能力，材料分析领域有望从这种创新方法提供的更高的精度和灵敏度中受益。LIXS 的开发标志着在追求准确和全面的微量分析技术方面向前迈出了重要一步，为各个科学学科的新见解和应用打开了大门。